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J-GLOBAL ID：200903053002999627

パターン検査装置および検査方法

Inventor：
千嶋 秀樹

About 千嶋 秀樹


Applicant, Patent owner：
イビデン株式会社

About イビデン株式会社


Agent (1)： 岡戸 昭佳 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001231845
Publication number (International publication number)：2003042971
Application date： Jul. 31, 2001
Publication date： Feb. 13, 2003
Summary：
【要約】【課題】 化学研磨されて光沢がほとんどない銅メッキパターンからも、撮像可能な輝度を有する反射光を得ることができるパターン検査装置および検査方法を提供すること。【解決手段】 3つのランプユニット31,31,31を有する光源部12と、3つのランプユニット31,31,31から入力される光を照射端でランダムミックスしてライン状の光を照射するライン型ライトガイド11と、ライン型ライトガイド11からの照射光を集光するシリンドリカルレンズ14と、シリンドリカルレンズ14で集光された照射光を拡散させるガラス系の拡散板15とを設けた。そして、各ランプユニット31には、ランプ32と、ランプ32からの照射光のうり基材からの反射率がパターンからの反射率より小さい短波長成分のものをカットするカラーフィルタ33とを設けた。
Claim (excerpt)：
被検査体の検査面にライン状の光を照射する照射端と、前記照射端から照射され検査面で反射された光を受光する受光素子とを有し、前記受光素子の検出情報に基づき検査面上のパターンの良否を検査するパターン検査装置において、前記照射端に光を供給する光源と、前記光源から供給される光のうち、パターンによる反射率が下地による反射率より小さい短波長成分のものをカットする分光フィルタとを有することを特徴とするパターン検査装置。
IPC (3)：
G01N 21/956 ,  G01B 11/30 ,  H05K 3/00
FI (3)：
G01N 21/956 B ,  G01B 11/30 A ,  H05K 3/00 Q
F-Term (28)：
2F065AA49 ,  2F065CC01 ,  2F065DD03 ,  2F065DD09 ,  2F065FF42 ,  2F065GG02 ,  2F065GG21 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL00 ,  2F065LL03 ,  2F065LL08 ,  2F065LL21 ,  2F065LL49 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ31 ,  2F065SS04 ,  2G051AA65 ,  2G051AB03 ,  2G051BB07 ,  2G051BB09 ,  2G051BB17 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051CD07 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EB01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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