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J-GLOBAL ID:200903053029883043

光パルス発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 古谷 史旺
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998257936
Publication number (International publication number):2000089176
Application date: Sep. 11, 1998
Publication date: Mar. 31, 2000
Summary:
【要約】【課題】 変調帯域内の任意の変調周波数で駆動することができ、光パルスのチャープ特性を制御することができ、さらにパルス幅が動作波長に依存せず、またキャリアが抑圧された光パルスを発生させる。【解決手段】 光キャリアを出力する光源と、駆動信号に対して動作バイアス点を中心に透過特性が偶関数の周期的な応答を有し、駆動信号により光キャリアを強度変調する光強度変調器と、光強度変調器を駆動する駆動信号として、光強度変調器の透過特性の2周期に対応する振幅2Vπを有し、周波数fの電気信号を出力する駆動手段と、光強度変調器の駆動信号の動作バイアス点を制御するバイアス制御手段とを備え、光強度変調器から繰り返し周波数2fの光パルスを出力する。
Claim (excerpt):
光キャリアを出力する光源と、駆動信号に対して動作バイアス点を中心に透過特性が偶関数の周期的な応答を有し、駆動信号により前記光キャリアを強度変調する光強度変調器と、前記光強度変調器を駆動する前記駆動信号として、前記光強度変調器の透過特性の2周期に対応する振幅を有し、周波数fの電気信号を出力する駆動手段と、前記光強度変調器の駆動信号の動作バイアス点を制御するバイアス制御手段とを備え、前記光強度変調器から繰り返し周波数2fの光パルスを出力することを特徴とする光パルス発生装置。
F-Term (12):
2H079AA02 ,  2H079AA12 ,  2H079BA01 ,  2H079CA04 ,  2H079CA11 ,  2H079EA04 ,  2H079EA05 ,  2H079FA01 ,  2H079FA02 ,  2H079HA14 ,  2H079KA18 ,  2H079KA19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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