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J-GLOBAL ID：200903053030597798

洗浄剤

Inventor： 坂井 隆也 ,  久保 誠 ,  寺▲崎▼ 博幸 ,  鐵 真希男
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 古谷 馨 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998327072
Publication number (International publication number)：2000144182
Application date： Nov. 17, 1998
Publication date： May. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】 温水を用いないで特に油性汚れに対する良好な洗浄力を示す洗浄剤の提供。【解決手段】 下記(a) 成分及び(b) 成分を含有し、(a) 成分と(b) 成分の合計含有量が1〜75重量%、(a) 成分と(b) 成分の重量比が、(a)/(b)=99/1〜50/50である洗浄剤。(a) 陰イオン界面活性剤(b) 一般式(I)で表される4級アンモニウム塩【化1】〔式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を示す。R2、R3及びR4はそれぞれ炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基、ベンジル基又は-(CH2CH2O)nH (nは1〜10の数)を示すが、これらの2つ以上が同時にベンジル基であることはない。X- は陰イオンを示す。〕

Claim (excerpt)：

下記(a) 成分及び(b) 成分を含有し、(a) 成分と(b) 成分の合計含有量が1〜75重量%、(a) 成分と(b) 成分の重量比が、(a)/(b)=99/1〜50/50である洗浄剤。(a) 陰イオン界面活性剤(b) 一般式(I)で表される4級アンモニウム塩【化1】〔式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を示す。R2、R3及びR4はそれぞれ炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のヒドロキシアルキル基、ベンジル基又は-(CH2CH2O)nH (nは1〜10の数)を示すが、これらの2つ以上が同時にベンジル基であることはない。X- は陰イオンを示す。〕

IPC (2)：

C11D 3/26 ,  C11D 10/02

FI (2)：

C11D 3/26 ,  C11D 10/02

F-Term (17)：

4H003AB03 ,  4H003AB19 ,  4H003AB27 ,  4H003AC08 ,  4H003BA09 ,  4H003DA01 ,  4H003DB02 ,  4H003EA12 ,  4H003EA15 ,  4H003EA16 ,  4H003EA25 ,  4H003EA28 ,  4H003EB19 ,  4H003EB30 ,  4H003EB32 ,  4H003EC01 ,  4H003FA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 可溶化剤とそれを用いる可溶化方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-319531   Applicant：大三工業株式会社
• 洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-099580   Applicant：第一工業製薬株式会社
• 台所用、衣料用又は身体用液体洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-030419   Applicant：旭電化工業株式会社
• 液体漂白剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-230131   Applicant：花王株式会社
• 液体漂白剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-118497   Applicant：花王株式会社