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J-GLOBAL ID：200903053073987832

尤度最大化を利用した画像位置合わせ(registration)システム及び方法

Inventor：
ジュ,ヤン-ミン

About ジュ,ヤン-ミン

, 
コチョフ,スティーヴン エム

About コチョフ,スティーヴン エム


Applicant, Patent owner：
コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ

About コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ


Agent (3)： 伊東 忠彦 ,  大貫 進介 ,  伊東 忠重
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002527450
Publication number (International publication number)：2004508856
Application date： Sep. 13, 2001
Publication date： Mar. 25, 2004
Summary：
画像処理システム及び方法であって、2枚の立体画像が確率的な関係を持つとの仮定に基づき、前記画像の尤度の統計的計量を計算する位置合わせ(registration)プロセッサを有する。前記尤度は重なり合ったボリューム中のボクセル(voxel)ペアの一部または全部についての(画像の関係に関する既知の知識から計算されるか、または前記画像データから純粋に予測される)変異確率を使って計算される。前記尤度は複数の変換について、尤度を最大化する変換が見つかるまで繰返し計算される。尤度を最大化する変換によって最適な位置合わせ(registration)がなされ、最適化された変換のパラメータがメモリに出力され、表示システムが画像を合成表示するのに使われる。最適化された尤度の解釈は単純で分かりやすく、位置合わせ(registration)品質をも示す。
Claim (excerpt)：
第1の立体画像と第2の立体画像を位置合わせ(registration)する方法であって、各画像はグレイスケールのボクセル(voxel)値の3次元配列であり、 (a)複数の前記ボクセル(voxel)値の整列したペアに変異確率を定義するステップが設けられ、前記ボクセル(voxel)値の整列したペアは前記第1の画像からのボクセル(voxel)値と前記第2の画像からの空間的に対応したボクセル(voxel)値とから成り、各変異確率は前記第1の画像のボクセル(voxel)値が前記第2の画像の空間的に対応したボクセル(voxel)値に対応する尤度及びその逆に関係し、前記定義付けは前記第1の画像と前記第2の画像の選択された幾何学的関係に基づいて定義され、 (b)前記第1の画像に対する前記第2の画像の幾何学的関係を定義する第1の変換を選択するステップが設けられ、 (c)前記変異確率を使って整列したボクセル(voxel)のペアの所定の集まりに対して尤度の計量を計算するステップが設けられ、前記尤度の前記計量は前記第2の画像を前提として前記第1の画像を得る確率及びその逆を表し、 (d)前記第1の画像に対する前記第2の画像の幾何学的関係を定義する異なる変換を選択するステップが設けられ、 (e)前記第1の画像に対する前記第2の画像の幾何学的関係を定義する最適な変換が求まるまで(c)と(d)のステップを反復するステップが設けられ、前記最適な変換は前記尤度の最適な計量を与える方法。
IPC (5)：
A61B5/055 ,  A61B5/00 ,  A61B6/03 ,  G01R33/32 ,  G06T17/40
FI (6)：
A61B5/05 380 ,  A61B5/00 D ,  A61B6/03 360G ,  A61B6/03 360Q ,  G06T17/40 A ,  G01N24/02 520Y
F-Term (25)：
2G088EE02 ,  2G088KK33 ,  2G088LL13 ,  2G088MM04 ,  4C093AA22 ,  4C093AA26 ,  4C093CA15 ,  4C093CA23 ,  4C093CA37 ,  4C093FF11 ,  4C093FF35 ,  4C093FF37 ,  4C093FF42 ,  4C096AB38 ,  4C096AB41 ,  4C096AD14 ,  4C096DC14 ,  4C096DC33 ,  4C096DC36 ,  5B050AA02 ,  5B050BA03 ,  5B050BA06 ,  5B050BA07 ,  5B050EA12 ,  5B050EA13
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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