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J-GLOBAL ID:200903053336282448

無電解ニッケルめっき浴および無電解ニッケル合金めっき浴

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小野 信夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004083111
Publication number (International publication number):2005264309
Application date: Mar. 22, 2004
Publication date: Sep. 29, 2005
Summary:
【課題】 有害物質である鉛等を実質的に含有させずに、めっき皮膜の良好な生成とめっき浴の良好な連続使用を達成できる無電解ニッケル(合金)めっき浴を提供すること。【解決手段】 水溶性ニッケル塩、還元剤、モリブデン及びアンチモンを含有する無電解ニッケルめっき浴およびこれに更に合金化金属塩を含有する無電解ニッケル合金めっき浴。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
水溶性ニッケル塩、還元剤、モリブデン及びアンチモンを含有する無電解ニッケルめっき浴。
IPC (4):
C23C18/34 ,  C23C18/50 ,  G11B5/858 ,  H01L21/288
FI (4):
C23C18/34 ,  C23C18/50 ,  G11B5/858 ,  H01L21/288 E
F-Term (29):
4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA04 ,  4K022BA06 ,  4K022BA07 ,  4K022BA08 ,  4K022BA09 ,  4K022BA11 ,  4K022BA12 ,  4K022BA13 ,  4K022BA14 ,  4K022BA16 ,  4K022BA18 ,  4K022BA21 ,  4K022BA24 ,  4K022BA25 ,  4K022BA28 ,  4K022BA32 ,  4K022DA01 ,  4K022DB02 ,  4K022DB03 ,  4K022DB05 ,  4M104BB05 ,  4M104DD53 ,  5D112AA03 ,  5D112AA24 ,  5D112BD03 ,  5D112EE01 ,  5D112EE06
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (5)
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