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J-GLOBAL ID:200903053405405344
リチウム二次電池用電極及びリチウム二次電池
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
目次 誠 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002023369
Publication number (International publication number):2003007295
Application date: Jan. 31, 2002
Publication date: Jan. 10, 2003
Summary:
【要約】【課題】 集電体3b上にシリコンを主体とする薄膜3aを堆積させて形成したリチウム二次電池用電極3において、放電容量が高く、かつ充放電サイクル特性に優れたリチウム二次電池用電極を得る。【解決手段】 周期律表4周期、5周期及び6周期のIIIa族、IVa族、Va族、VIa族、VIIa族、VIII族、Ib族、及びIIb族の元素(但し、銅(Cu)は除く)の少なくとも1種が、シリコンを主体とする薄膜3aの少なくとも表面に含まれていることを特徴としている。
Claim (excerpt):
集電体上にシリコンを主体とする薄膜を堆積させて形成したリチウム二次電池用電極であって、周期律表4周期、5周期及び6周期のIIIa族、IVa族、Va族、VIa族、VIIa族、VIII族、Ib族、及びIIb族の元素(但し、銅(Cu)を除く)の少なくとも1種が、シリコンを主体とする前記薄膜の少なくとも表面に含まれていることを特徴とするリチウム二次電池用電極。
IPC (6):
H01M 4/38
, C22C 28/00
, H01M 4/02
, H01M 4/04
, H01M 4/66
, H01M 10/40
FI (7):
H01M 4/38 Z
, C22C 28/00 Z
, H01M 4/02 C
, H01M 4/02 D
, H01M 4/04 A
, H01M 4/66 A
, H01M 10/40 Z
F-Term (44):
5H017AA03
, 5H017CC01
, 5H017DD01
, 5H017EE01
, 5H017EE04
, 5H017HH03
, 5H029AJ03
, 5H029AJ05
, 5H029AK03
, 5H029AK11
, 5H029AL11
, 5H029AL12
, 5H029AM02
, 5H029AM03
, 5H029AM04
, 5H029AM07
, 5H029AM16
, 5H029BJ04
, 5H029CJ24
, 5H029DJ07
, 5H029DJ17
, 5H029DJ18
, 5H029EJ01
, 5H029EJ04
, 5H029EJ12
, 5H029HJ01
, 5H029HJ03
, 5H029HJ19
, 5H050AA07
, 5H050AA08
, 5H050BA16
, 5H050BA17
, 5H050CA08
, 5H050CA09
, 5H050CA17
, 5H050CB12
, 5H050DA04
, 5H050EA10
, 5H050EA24
, 5H050FA19
, 5H050FA20
, 5H050GA24
, 5H050HA01
, 5H050HA03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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非水系二次電池用負極材料とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-293898
Applicant:花王株式会社
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非水二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-334764
Applicant:日立マクセル株式会社
-
非水電解質二次電池及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-173313
Applicant:セイコー電子工業株式会社, セイコー電子部品株式会社
-
リチウム二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-070997
Applicant:日本電池株式会社
-
非水二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-171664
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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非水二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-179009
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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