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J-GLOBAL ID：200903053569970743

改良された反射防止表面処理塗膜

Inventor：
ジャイン,サンジャ

About ジャイン,サンジャ

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フンク,ルーディゲル

About フンク,ルーディゲル


Applicant, Patent owner：
ヘキスト、セラニーズ、コーポレーション

About ヘキスト、セラニーズ、コーポレーション

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ヘキスト、アクチェンゲゼルシャフト

About ヘキスト、アクチェンゲゼルシャフト


Agent (1)： 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1995512016
Publication number (International publication number)：1997506185
Application date： Oct. 12, 1994
Publication date： Jun. 17, 1997
Summary：
【要約】フォトレジスト用の反射防止塗料組成物、及び屈折率が約1.20より大きく、約1.40までであり、四分の一波長厚さに塗布することができ、また下層のフォトレジスト用の現像液で除去可能な塗膜を得る方法。この塗料組成物は、以下の単位を有するコポリマーを含んでなる。a)ここでXはCO2L、SO3L、OH、CO(OC2H4)xOH、CONHC(CH3)2CH2SO3L、PO3L2もしくはCONH2である。ここでLはH、I族もしくはII族のカチオン、又はNH4+であり、xは0〜10である。b)ここでYはフッ素、もしくはフッ素を含有する脂肪族有機置換基であり、好ましくはCOO(CH2)x(CF2)nCF3、SO2O(CH2)x(CF2)nCF3、SO2(OC2H4)xO(CH2)x(CF2)nCF3、CO(OC2H4)xO(CH2)x(CF2)nCF3、もしくはから選ばれるものである。ここで脂肪鎖は枝分かれしていても、いなくてもよい。ここで、RはH、ハロゲン、CF3、C1〜C8アルキル、もしくはCNであり、nは0〜14、xは0〜10である。
Claim (excerpt)：
フォトレジスト用の反射防止塗料組成物であって、その塗膜の屈折率が約1.2より大きく、約1.40までであり、四分の一波長厚さに塗布することができ、また下層のフォトレジスト用の現像液で除去可能であり、以下の単位を有するコポリマーを含んでなる反射防止塗料組成物。 a) ここでXはCO2L、SO3L、OH、CO(OC2H4)xOH、CONHC(CH3)2CH2SO3L、PO3L2もしくはCONH2である。ここでLはH、I族もしくはII族のカチオン、又はNH4+であり、xは0〜10である。 b) ここでYはフッ素、もしくはフッ素を含有する脂肪族有機置換基である。 ここで、RはH、ハロゲン、CF3、C1〜C8アルキル、もしくはCNである。
IPC (13)：
G03F 7/11 501 ,  C09D 5/00 PPQ ,  C09D133/02 PFW ,  C09D133/14 PFZ ,  C09D133/16 ,  C09D133/18 ,  C09D133/24 ,  C09D141/00 PGL ,  C09D143/02 ,  C09D155/00 PGZ ,  G02B 1/10 ,  G03F 7/004 506 ,  H01L 21/027
FI (13)：
G03F 7/11 501 ,  C09D 5/00 PPQ ,  C09D133/02 PFW ,  C09D133/14 PFZ ,  C09D133/16 ,  C09D133/18 ,  C09D133/24 ,  C09D141/00 PGL ,  C09D143/02 ,  C09D155/00 PGZ ,  G03F 7/004 506 ,  G02B 1/10 Z ,  H01L 21/30 574
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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