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J-GLOBAL ID:200903053751169428

ガス流れ制御型排ガス処理用反応容器

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 奥山 尚男 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997069806
Publication number (International publication number):1998263354
Application date: Mar. 24, 1997
Publication date: Oct. 06, 1998
Summary:
【要約】【課題】 排ガス中のNOx , SOx 等の有害物質をプラズマを用いて処理する装置に適用される反応容器に関して、線電極から離れるに従って除去率は悪くなり、反応容器全体としては除去率が悪くなり処理効率が悪くなる従来技術の欠点を解消し、エネルギーの浪費を最小限に抑えることができ、有害物質の処理効率を向上できる排ガス処理用反応容器を提供する。【解決手段】 反応容器の入口付近にガス制御体(絞り部)を設置することで、有害物質の濃度の高い反応容器の上流側では電界強度の強い線電極近傍をガスが流れるような構成にする。
Claim (excerpt):
電圧電源よりエネルギーが供給され、プラズマを発生する反応容器を有し、この反応容器中に排ガスを流して有害物質を分解するものにおいて、該排ガスの流れる上記反応容器内部にガス流れ制御体を設けたことを特徴とするガス流れ制御型排ガス処理用反応容器。
IPC (5):
B01D 53/32 ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/74 ,  B01J 19/08
FI (4):
B01D 53/32 ,  B01J 19/08 E ,  B01D 53/34 122 Z ,  B01D 53/34 129 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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