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J-GLOBAL ID：200903053970909020

軟磁性薄膜の製造方法

Inventor： 箕野 哲哉 ,  宇野 泰史
Applicant, Patent owner： ティーディーケイ株式会社
Agent (1)： 石井 陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996269449
Publication number (International publication number)：1998097707
Application date： Sep. 19, 1996
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 MRヘッドや、再生用のMRヘッド部と記録用の誘導型ヘッド部とを有するMR誘導型複合ヘッドの磁気シールド膜や磁極に適用される軟磁性薄膜を形成する際に、高温での熱処理を施さずに前記軟磁性薄膜の応力を制御可能とする。【解決手段】 Fe-Zr-N等の金属窒化物から構成される薄膜を形成する際の反応性スパッタ工程において、基板とターゲットとが周期的に対向するようにターゲットに対する基板の相対的移動を行うか、基板に負のバイアス電圧を加えるか、前記相対的移動を行いかつ前記負のバイアス電圧を加えることにより、前記薄膜の応力を制御する。

Claim (excerpt)：

金属窒化物から構成される薄膜を反応性スパッタにより基板上に形成する工程を有し、前記反応性スパッタに際し、基板とターゲットとが周期的に対向するようにターゲットに対する基板の相対的移動を行うか、基板に負のバイアス電圧を加えるか、前記相対的移動を行いかつ前記負のバイアス電圧を加えることにより、前記薄膜の応力を制御する軟磁性薄膜の製造方法。

IPC (5)：

G11B 5/31 ,  G11B 5/127 ,  G11B 5/39 ,  H01F 41/18 ,  H01L 43/12

FI (5)：

G11B 5/31 C ,  G11B 5/127 K ,  G11B 5/39 ,  H01F 41/18 ,  H01L 43/12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-121312
  
• 軟磁性薄膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-344030   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 特開平4-137715
  
• 特開平3-001513