Pat
J-GLOBAL ID:200903053977140139
酸化チタンの製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000176519
Publication number (International publication number):2001354422
Application date: Jun. 13, 2000
Publication date: Dec. 25, 2001
Summary:
【要約】【課題】 可視光線の照射によって触媒活性を示す酸化チタンを真空容器を備えた特定の装置を用いることなく簡易に製造する方法を提供する。【解決手段】 非晶質である酸化チタン前駆体を焼成炉に入れた後、該焼成炉にアンモニア含有ガスを導入して300〜600°Cで焼成する。
Claim (excerpt):
酸化チタン前駆体をアンモニア含有ガス雰囲気下、300〜600°Cで焼成することを特徴とする酸化チタンの製造方法。
IPC (5):
C01G 23/08
, B01D 53/86 ZAB
, B01J 21/06
, B01J 35/02
, B01J 37/08
FI (5):
C01G 23/08
, B01J 21/06 A
, B01J 35/02 J
, B01J 37/08
, B01D 53/36 ZAB J
F-Term (31):
4D048AA19
, 4D048AA22
, 4D048AB03
, 4D048BA07X
, 4D048BA41X
, 4D048EA01
, 4G047CA02
, 4G047CB04
, 4G047CC03
, 4G047CD02
, 4G047CD03
, 4G047CD05
, 4G047CD07
, 4G069AA02
, 4G069AA08
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA04C
, 4G069BA48A
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069CA01
, 4G069CA10
, 4G069CA17
, 4G069EA01X
, 4G069EA01Y
, 4G069EC22Y
, 4G069FB08
, 4G069FB29
, 4G069FB31
, 4G069FB36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開昭63-222007
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可視光応答材料及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-019248
Applicant:有限会社環境デバイス研究所
-
特開昭63-222007
-
低抵抗黒色酸化チタンとその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-095982
Applicant:三菱マテリアル株式会社
-
可視光応答材料及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-185990
Applicant:有限会社環境デバイス研究所
-
可視光応答材料及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-011014
Applicant:有限会社環境デバイス研究所
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