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J-GLOBAL ID：200903054015747968

微細構造転写装置

Inventor： 近藤 弓人 ,  高橋 一雄 ,  荻野 雅彦 ,  安藤 拓司 ,  宮内 昭浩
Applicant, Patent owner： 株式会社日立プラントテクノロジー
Agent (1)： 井上 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005151763
Publication number (International publication number)：2006326948
Application date： May. 25, 2005
Publication date： Dec. 07, 2006
Summary：

【課題】 ロールの回転速度を高くし生産性を高めても期待したパターンを転写することができる微細構造転写装置を提供することである。【解決手段】 樹脂層に微細なパターンを有するスタンパを加熱加圧することにより、樹脂層に該スタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置であり、スタンパを有するべルト9をスタンパのパターン面が樹脂層2側となるようにして樹脂層2と対向させ、多段に設けたローラ13によりベルト9を介してスタンパを樹脂層2に加熱加圧し、転写する。 【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

樹脂層に微細なパターンを有するスタンパを加熱加圧することにより、該樹脂層に該スタンパの微細パターンを転写する微細構造転写装置において、

IPC (3)：

B29C 59/04 ,  B81C 5/00 ,  H01L 21/027

FI (3)：

B29C59/04 B ,  B81C5/00 ,  H01L21/30 502D

F-Term (15)：

4F209AC03 ,  4F209AF00 ,  4F209AG01 ,  4F209AH33 ,  4F209AR02 ,  4F209AR06 ,  4F209PA05 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN03 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ06 ,  4F209PQ07 ,  5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• エンボス加工装置とその製品
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-132082   Applicant：小林一雄

Cited by examiner (3)

• 特開昭56-159127
  
• 真空積層装置及び積層方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-164889   Applicant：ニチゴー・モートン株式会社
• 特公昭42-022315