不活性閉塞基を有する重合体を含む感照射線性組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：津国肇 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996060477
Publication number (International publication number)：1996339086
Application date： Mar. 18, 1996
Publication date： Dec. 24, 1996
Summary：

【要約】【課題】高い規定度のアルカリ現像液を用いて、ミクロ橋かけを生ぜず、優れた解像力と感光速度を有するホトレジスト、およびそれに適する新規な重合体を提供する。【解決手段】フェノール単位および場合によってはシクロヘキサノール単位を含む(共)重合体において、上記の単位の環上のヒドルキシル基の一部を、不活性な閉塞基で置換した共重合体;およびそれを高分子結合剤として用いたネガ型ホトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式:【化1】および【化2】(式中、Zは、1〜3個の炭素原子を有するアルキレン架橋を表し;Aは、芳香族環上の置換基を表し;aは、0〜4の整数であり;Bは、環状アルコール環上の置換基を表し;bは、0〜6の整数であり;xは、フェノール単位のモル分率で0.50〜0.99の数であり;yは、シクロヘキサノール単位のモル分率で0〜0.50の数であり;x1 は、不活性閉塞基を有するフェノール単位のモル分率で0.01〜0.20の数であり;y1 は、不活性閉塞基を有するシクロヘキサノ-ル単位のモル分率で0〜0.20の数であり;-OGは、酸との反応に不活性な閉塞基を表す)からなる群より選ばれる一般式で示されるアルカリ可溶性重合体。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 , C08G 8/28 NBK , C08L 61/14 LNF , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/038 505 , C08G 8/28 NBK , C08L 61/14 LNF , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

特開平2-136859
特開平4-136859
特開平2-136859

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