フォトレジスト組成物

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994115531
Publication number (International publication number)：1995295220
Application date： May. 27, 1994
Publication date： Nov. 10, 1995
Summary：

【要約】【目的】遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)を光源として用いる露光領域において、感度及び解像度等の諸性能に優れたネガ型及びポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 (A) 部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノール及び部分的にアルキルエーテル化された水素添加ポリビニルフェノールからなる群から選択される少なくとも1種を含有するアルカリ可溶性樹脂、(B) N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤並びに(C) 架橋剤を含むネガ型フォトレジスト組成物、さらに、上記(A) のアルカリ可溶性樹脂、上記(B) の光酸発生剤並びに(D) 溶解阻止剤を含むポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A) 部分的にアルキルエーテル化されたポリビニルフェノール及び部分的にアルキルエーテル化された水素添加ポリビニルフェノールからなる群から選択される少なくとも1種を含有するアルカリ可溶性樹脂、(B) N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤、並びに、(C) 架橋剤を含むことを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 505 , C08K 5/42 KBU , G03F 7/004 503 , G03F 7/031 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

特開平4-215662
特開平3-107160
特開平4-291259

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