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J-GLOBAL ID：200903054063417384

基板搬送処理装置

Inventor： 金子 聡 ,  上川 裕二 ,  高口 玲 ,  黒田 修 ,  北原 重徳
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 中本 菊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997116571
Publication number (International publication number)：1998270530
Application date： Apr. 18, 1997
Publication date： Oct. 09, 1998
Summary：

【要約】【課題】 装置全体を小型にしてスループットの向上を図れるようにすると共に、製品歩留まりの向上を図れるようにすること。【解決手段】 被処理用のウエハWを水平状態に収納するキャリア1の搬入部と、キャリア1の搬出部と、キャリア1内のウエハWを取り出すウエハ取出しアーム14と、キャリア1内にウエハWを収納するウエハ収納アーム16と、ウエハWを水平状態と垂直状態に変換する姿勢変換装置40と、ウエハWを適宜処理する処理部3と、姿勢変換装置40と処理部3との間でウエハWを受け渡しすると共に、処理部3にウエハWを搬入又は搬出するウエハ搬送アーム56とで主要部を構成することにより、キャリア1内に水平状態で収納されるウエハWを取出して垂直状態に姿勢変換した後、適宜処理を施し、処理後水平状態に姿勢変換してキャリア1内に収納することができる。

Claim (excerpt)：

被処理用の基板を水平状態に収納する容器の搬入部と、上記容器の搬出部と、上記容器内の基板を取り出す基板取出し手段と、上記容器内に基板を収納する基板収納手段と、上記基板を水平状態と垂直状態に変換する姿勢変換手段と、上記基板を適宜処理する処理部と、上記姿勢変換手段と処理部との間で上記基板を受け渡しすると共に、処理部内で基板を搬送する基板搬送手段と、を具備することを特徴とする基板搬送処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/304 341

FI (2)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/304 341 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 基板の姿勢変換装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-252544   Applicant：株式会社スガイ
• 被処理体支持装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-023268   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 処理装置及び処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-082400   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
• 特開昭63-140523