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J-GLOBAL ID：200903054175478319

低次酸化チタン含有顔料及びその製造方法

Inventor： 塩 庄一郎 ,  鈴木 福二
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 岩橋 祐司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994271679
Publication number (International publication number)：1996109339
Application date： Oct. 11, 1994
Publication date： Apr. 30, 1996
Summary：

【要約】【構成】 低次酸化チタンと共に、酸化珪素が存在することを特徴とする低次酸化チタン含有顔料。 二酸化チタンと共に、還元剤として珪素を共存させ、低酸素濃度雰囲気下で還元焼成することを特徴とする低次酸化チタン含有顔料の製造方法。【効果】 効率よく、しかも還元剤と粉末との溶融による凝集を生じることなく、低次酸化チタン含有顔料を製造することができる。

Claim (excerpt)：

低次酸化チタンと共に、酸化珪素が存在することを特徴とする低次酸化チタン含有顔料。

IPC (2)：

C09C 1/36 PAV ,  C09C 1/36 PAW

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 低次酸化チタン含有顔料の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-325910   Applicant：株式会社資生堂

Cited by examiner (1)

• 低次酸化チタン含有顔料の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-325910   Applicant：株式会社資生堂