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J-GLOBAL ID:200903054455701587

水素発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 萩野 平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998187587
Publication number (International publication number):2000017470
Application date: Jul. 02, 1998
Publication date: Jan. 18, 2000
Summary:
【要約】【課題】 低温で、しかも電力消費を極端に少なくした電解水素の製造装置を提供する。【解決手段】 電解により水素を発生する水素発生装置において、陽極にガス拡散電極を用い、該陽極と陰極との間に固体電解質膜を介在させ、該陽極のス拡散電極に水蒸気とメタンガスの混合ガスを供給し、陰極側から水素を得るように形成していることを特徴とする水素発生装置。該固体電解質膜として耐熱性のあるイオン交換膜を使用することが好ましい。また、陽極及び陰極と固体電解質膜とは密着させることが好ましく、陽極と固体電解質膜とを一体成形することもできる。
Claim (excerpt):
電解により水素を発生する水素発生装置において、陽極にガス拡散電極を用い、該陽極と陰極との間に固体電解質膜を介在させ、該陽極のガス拡散電極に水蒸気とメタンガスの混合ガスを供給し、陰極側から水素を得るように形成していることを特徴とする水素発生装置。
F-Term (13):
4K021AA01 ,  4K021AB25 ,  4K021BC05 ,  4K021DB12 ,  4K021DB16 ,  4K021DB18 ,  4K021DB19 ,  4K021DB21 ,  4K021DB31 ,  4K021DB40 ,  4K021DB43 ,  4K021DB53 ,  4K021DC03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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