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J-GLOBAL ID：200903054478981390
制御されたラジカル重合によって造られる界面活性ブロックコポリマー
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
倉内 基弘
, 風間 弘志
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002587483
Publication number (International publication number)：2005503452
Application date： Apr. 19, 2002
Publication date： Feb. 03, 2005
Summary：
発明は、リビング又は制御方法と呼ばれる調製方法によって調製される、親水性ブロック少なくとも1つ及び疎水性ブロック少なくとも1つを含む界面活性剤ブロックを有し、数平均分子質量1000〜50000、好ましくは2000〜20000、なお一層好ましくは4000〜16000、30°Cよりも低い、好ましくは25°Cよりも低くかつ-100°Cよりも高い疎水性ブロックのガラス転移温度、脱ミネラル水中濃度10-4モル/l以下で測定して60ミリニュートン/メートル(mN/m)よりも小さい、好ましくは50mN/mよりも小さい表面張力を有するコポリマーに関する。コポリマーは、特に洗浄剤、ペイント、接着剤及び建築材料において有用である。
Claim (excerpt)：
移動剤を使用する「リビング」調製プロセスによって調製される、親水性ブロック少なくとも1つ及び疎水性ブロック少なくとも1つを含み、下記:
数平均分子質量1000〜50000、好ましくは2000〜20000、なお一層好ましくは4000〜16000、
30°Cよりも低い、好ましくは25°Cよりも低くかつ-100°Cよりも高い疎水性ブロックのガラス転移温度、及び
20°Cかつ大気下で脱ミネラル水中濃度10-4モル/l以下で測定して60ミリニュートン/メートル(mN/m)よりも小さい、好ましくは50mN/mよりも小さい表面張力
を示す界面活性ブロックコポリマー。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (18)：
4H003EB28
, 4J011AA05
, 4J011NA26
, 4J011NB06
, 4J011NC02
, 4J026HA11
, 4J026HA12
, 4J026HA17
, 4J026HA22
, 4J026HA32
, 4J026HA39
, 4J026HA48
, 4J026HB10
, 4J026HB11
, 4J026HB22
, 4J026HB32
, 4J026HB45
, 4J026HE01
Cited by examiner (5)
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