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J-GLOBAL ID:200903054555839950
非水電解液二次電池及び非水電解液
Inventor:
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,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
松川 克明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004271042
Publication number (International publication number):2006086058
Application date: Sep. 17, 2004
Publication date: Mar. 30, 2006
Summary:
【課題】 集電体の上にリチウムを吸蔵・放出する金属を含む負極活物質の薄膜が形成され、この負極活物質の薄膜が切れ目により柱状に分離された非水電解液二次電池において、負極活物質と非水電解液との反応等を抑制し、高い充放電容量と共に優れた充放電サイクル特性が得られるようにする。【解決手段】 集電体2bの上にリチウムを吸蔵・放出する金属を含む負極活物質の薄膜が形成され、この負極活物質の薄膜が厚み方向に形成された切れ目により柱状に分離された負極2と、リチウムを吸蔵・放出する正極活物質を用いた正極1と、非水系溶媒にリチウム塩が溶解された非水電解液とを有する非水電解液二次電池において、非水電解液に、フッ素が結合されたアルキル基を有するカーボネート化合物を含有させた。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
集電体の上にリチウムを吸蔵・放出する金属を含む負極活物質の薄膜が形成された負極と、リチウムを吸蔵・放出する正極活物質を用いた正極と、非水系溶媒にリチウム塩が溶解された非水電解液とを有し、上記の負極活物質の薄膜がその厚み方向に形成された切れ目によって柱状に分離されている非水電解液二次電池において、上記の非水電解液中に下記の化1に示す一般式(I)で表わされる化合物が含有されている非水電解液二次電池。
IPC (3):
H01M 10/40
, H01M 4/02
, H01M 4/38
FI (3):
H01M10/40 A
, H01M4/02 D
, H01M4/38 Z
F-Term (29):
5H029AJ03
, 5H029AJ05
, 5H029AK03
, 5H029AK19
, 5H029AL11
, 5H029AM03
, 5H029AM04
, 5H029AM05
, 5H029AM07
, 5H029BJ03
, 5H029CJ24
, 5H029DJ11
, 5H029HJ01
, 5H029HJ02
, 5H029HJ10
, 5H050AA07
, 5H050AA08
, 5H050BA16
, 5H050CA07
, 5H050CA08
, 5H050CA09
, 5H050CA29
, 5H050CB11
, 5H050DA18
, 5H050FA11
, 5H050GA24
, 5H050HA01
, 5H050HA02
, 5H050HA10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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リチウム二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-220732
Applicant:三洋電機株式会社
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炭素アノードを有するリチウム蓄電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-097122
Applicant:サフト
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特許第3059832号公報
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Cited by examiner (6)
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リチウム二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-313929
Applicant:古河電池株式会社
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リチウム二次電池用電極及びリチウム二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-086530
Applicant:三洋電機株式会社
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リチウム二次電池用電極及びリチウム二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-084761
Applicant:三洋電機株式会社
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リチウム二次電池用電極及びリチウム二次電池
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-023369
Applicant:三洋電機株式会社
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電池およびその充放電方法、並びにその充放電制御素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-347294
Applicant:ソニー株式会社
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特願2004-012352
Application number:特願2004-012352
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