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J-GLOBAL ID:200903054628188902

精製アルコキシド及びアルコキシドの精製方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999069583
Publication number (International publication number):1999335310
Application date: Mar. 16, 1999
Publication date: Dec. 07, 1999
Summary:
【要約】【課題】 半導体製造プロセスに使用される液体CVD材料において、高品質の絶縁膜の製造が可能な精製アルコキシド及びアルコキシドの精製方法を開発する。【解決手段】 粗アルコキシドを蒸留した後、蒸留アルコキシドの液中に不活性ガスを通気するとともに超音波振動を与えてストリッピングを行ない、アルコキシド中に溶存するハロゲン、ハロゲン化水素、酸素、二酸化炭素等の揮発性不純物を除去する。
Claim (excerpt):
残留酸素濃度が0.15ppm以下であることを特徴とする精製アルコキシド。
IPC (11):
C07C 29/80 ,  C07C 29/76 ,  C07C 31/28 ,  C07C 31/32 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/316 ,  C07F 7/04 ,  C07F 7/28 ,  C07F 9/00 ,  C23C 16/18 ,  C23C 16/44
FI (11):
C07C 29/80 ,  C07C 29/76 ,  C07C 31/28 ,  C07C 31/32 ,  H01L 21/31 F ,  H01L 21/316 X ,  C07F 7/04 K ,  C07F 7/28 B ,  C07F 9/00 Z ,  C23C 16/18 ,  C23C 16/44 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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