Pat
J-GLOBAL ID：200903054633263912

高配向グラファイト及びその製造方法

Inventor：
西川 泰司

About 西川 泰司

, 
村上 睦明

About 村上 睦明


Applicant, Patent owner：
株式会社カネカ

About 株式会社カネカ


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004134346
Publication number (International publication number)：2005314168
Application date： Apr. 28, 2004
Publication date： Nov. 10, 2005
Summary：
【課題】従来のピロメリット酸二無水物と4,4’-ジアミノジフェニルエーテル(4,4’-オキシジアニリン)から合成されるポリイミドフィルムの積層体を加熱加圧処理して得られる高配向グラファイトは、ロッキング特性(配向性)が0.45より大きいため、放射線反射性及び熱伝導性に劣り、高性能な放射線光学素子、高熱伝導体としては不十分であった。【解決手段】 放射線光学素子、高熱伝導体において、複屈折の高いポリイミドフィルムの積層体を加熱加圧処理して得られた厚みが0.1mm以上、6mm以下で、ロッキング特性が0.44以下である高配向グラファイトを用いることを特徴とする。 また、高配向グラファイトの製造方法において、複屈折の高いポリイミドフィルムの積層体を加熱加圧処理して製造することを特徴とする。さらに、原料の厚みを増やし、炭化中も加圧すると品質が高くなる。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
ポリイミドフィルムまたはポリイミドフィルムから得られた炭素質フィルムを複数枚積層して加熱加圧処理して得られるグラファイトにおいて、出来上がり厚みが0.1mm以上、6mm以下で、ロッキング特性が0.44以下であることを特徴とする高配向グラファイト
IPC (1)：
C01B31/04
FI (1)：
C01B31/04 101A
F-Term (20)：
4G146AA03 ,  4G146AB07 ,  4G146AD05 ,  4G146AD22 ,  4G146AD40 ,  4G146BA11 ,  4G146BA15 ,  4G146BB04 ,  4G146BB05 ,  4G146BB06 ,  4G146BB07 ,  4G146BB22 ,  4G146BC03 ,  4G146BC04 ,  4G146BC23 ,  4G146BC33B ,  4G146BC34B ,  4G146BC35B ,  4G146BC36B ,  4G146BC38B
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 特開平4-202052
  • 特開平4-202055
Cited by examiner (8)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM