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J-GLOBAL ID：200903054713051851

レーザパルス比較方法、高速レーザー走査方法、高速走査レーザー装置、短パルスレーザー装置、距離計測装置、電気光学サンプリング・オシロスコープ、短パルスレーザー安定制御方法および較正時間スケール発生装置

Inventor： グレッグ ディー スーハ ,  マーチン イー ファーマン ,  ドナルド ジェー ハーター
Applicant, Patent owner： イムラ アメリカ インコーポレイテッド
Agent (1)： 大川 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997030863
Publication number (International publication number)：1998096610
Application date： Feb. 14, 1997
Publication date： Apr. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 最小の(ミクロンの)機械的動作で発生する超短パルス幅レーザーを使用して時間走査を行う方法・装置を提供すること。また、フェムト秒台の高精度タイミング較正を行う方法を提供すること。【解決手段】 二つのレーザー610,620のうち一方620のキャビティー長には、ピエゾ素子PZTで動揺が与えられている。ファブリペローエタロンFPは、レーザー610の単パルスからタイミングパルス列を生成する。相関器640は、同タイミングパルス列とレーザー620からのゲートパルスとの相関を取り較正時間スケールを生成する。本発明には高度の高速走査と時間較正とが要求される分野で多くの応用がある。例えば、表面計測、半導体のチャージダイナミックス測定、超高速電子/光電デバイスの電気光学試験、光学的時間領域反射率計測、電気光学サンプリング・オシロスコープ、その他に応用できる。

Claim (excerpt)：

第1レーザー発生源からの第1レーザパルスと第2レーザー発生源からの第2レーザーパルスとの間の時間差を検出する検出ステップと、検出された該時間差に基づいて制御信号を発生させる制御信号発生ステップと、該制御信号に基づいて該第2レーザー発生源の出力を連続的に調整し、該調整により該第1レーザパルスと該第二レーザパルスとの間の該時間差を制御する時間差制御ステップとを有し、該第1レーザー発生源からの該第1レーザパルスと該第2レーザー発生源からの該第2レーザーパルスとを比較する、レーザパルス比較方法

IPC (4)：

G01B 11/24 ,  G01M 11/00 ,  G01S 7/48 ,  H01S 3/105

FI (4)：

G01B 11/24 A ,  G01M 11/00 R ,  G01S 7/48 Z ,  H01S 3/105

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• パルスレーザ測距装置および測距方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-077982   Applicant：イムラアメリカインコーポレイテッド
• レーザ光発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-078753   Applicant：ソニー株式会社