需要量予測方法及び需要量予測システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：西川惠清 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002153079
Publication number (International publication number)：2003346070
Application date： May. 27, 2002
Publication date： Dec. 05, 2003
Summary：

【要約】【課題】需要量の予測精度を向上させた需要量予測方法及び需要量予測システムを提供する。【解決手段】本システムは、実績が計上された過去の期間から将来の予測期間にわたって需要量の増減に影響を与える需要環境条件情報を蓄積する需要環境条件情報データベース5bと、過去の期間における需要量の実績値から需要環境条件情報の影響による変化分を取り除いたベースデータを抽出するベースデータ抽出手段4aと、需要量の時間的な変化傾向を表す予測モデルをベースデータに当てはめて、将来の予測期間におけるベースデータの予測値を求めるベース予測値抽出手段4cと、ベースデータの予測値に対して需要環境条件情報の影響による変化分を加味して補正処理を行い、将来の予測期間における需要量の予測値を求める補正処理手段4dとを備える。

Claim (excerpt)：

過去の需要量の実績値をもとに、将来の需要量を予測する需要量予測方法であって、実績が計上された過去の期間から将来の予測期間にわたって需要量の増減に影響を与える影響要因パラメータを入力する過程と、過去の期間における需要量の実績値から影響要因パラメータの影響による変化分を取り除いて、前記影響要因パラメータの影響を受けない需要量のベースデータを抽出する過程と、需要量の時間的な変化傾向を表す予測モデルをベースデータに当てはめて、将来の予測期間におけるベースデータの予測値を求める過程と、ベースデータの予測値に対して前記影響要因パラメータの影響による変化分を加味して補正処理を行い、将来の予測期間における需要量の予測値を求める過程とからなることを特徴とする需要量予測方法。

IPC (2)：

G06F 19/00 100 , G06F 17/60 170

FI (2)：

G06F 19/00 100 , G06F 17/60 170 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

時系列予測方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-259800 Applicant：株式会社日立製作所
予測目的別モデル選定型需要予測方式
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-049662 Applicant：株式会社日立製作所, 日立東北ソフトウェア株式会社
時系列データの予測方法およびシステム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-020639 Applicant：株式会社日立製作所

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