光触媒膜が被覆された物品、その物品の製造方法及びその膜を被覆するために用いるスパッタリングターゲット

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大野精市
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000378033
Publication number (International publication number)：2001240960
Application date： Dec. 12, 2000
Publication date： Sep. 04, 2001
Summary：

【要約】【課題】大面積の基体に光触媒活性が高い光触媒膜をスパッタリング法で能率良く被覆する方法がなく、高活性の光触媒膜が得られていなかった。【解決手段】ガラス板にスパッタリング法により成膜された光触媒膜が被覆された物品であって、光触媒膜は主成分であるチタン酸化物に対して、Arに対するスパッタリング率が、Tiの0.9倍以上、2.7倍以下である少なくとも一種の金属、好ましくはFe、V、Mo、Nb、Al、Crの金属群から選ばれた少なくとも一種の金属を、金属ベースの合計量で0.01〜10重量%含有している。この膜は、1)前記金属を金属ベースの合計量で0.01〜10重量%含有したTi金属またはTi亜酸化物スパッタリングターゲットを用いて成膜する方法、2)交互に陰極と陽極になるように反転する電位を印加する2つのスパッタリングターゲットを用いて成膜する方法、により基体上に被覆する。

Claim (excerpt)：

基体上にスパッタリング法により成膜された光触媒膜が被覆された物品であって、前記光触媒膜は、1)主成分であるチタン酸化物と、2)100eV〜2000eVのイオンエネルギー領域における少なくとも一種のエネルギーを持つArに対するスパッタリング率が、Tiの0.9倍以上、2.7倍以下である少なくとも一種の金属、からなることを特徴とする光触媒膜が基体上に被覆された物品。

IPC (10)：

C23C 14/34 , B01J 23/20 , B01J 23/22 , B01J 23/28 , B01J 23/745 , B01J 23/847 , B01J 23/88 , B01J 35/02 , B01J 37/02 301 , C23C 14/08

FI (11)：

C23C 14/34 A , C23C 14/34 N , B01J 23/20 M , B01J 23/22 M , B01J 23/28 M , B01J 23/88 M , B01J 35/02 J , B01J 37/02 301 P , C23C 14/08 E , B01J 23/74 301 M , B01J 23/84 301 M

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

真空成膜装置およびその使用方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-324043 Applicant：日本電信電話株式会社
二酸化チタンを基とする光触媒コーティングを有する基材及び二酸化チタンを基とする有機分散体
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平9-511720 Applicant：ロディアシミ, サンゴバンビトラージュ
光触媒
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-247308 Applicant：株式会社ブリヂストン

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