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J-GLOBAL ID:200903054917179466

プラズマ法排ガス浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岸本 瑛之助 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994306477
Publication number (International publication number):1996155249
Application date: Dec. 09, 1994
Publication date: Jun. 18, 1996
Summary:
【要約】【目的】 プラズマと排ガスとの接触効率の問題と、スケールアップの問題とを同時に解決したプラズマ法排ガス浄化装置を提供する。【構成】 放電電極13および対向電極14を備えた反応器10と、両電極13,14 に接続された高電圧パルス電源12とを備えている。両電極13,14 間には、高電圧パルスが印加されることにより非平衡プラズマ 21 が発生している。放電電極13は、対向電極14と同じ面積の支持板15と、支持板15下面に設けられた下向きの多数の放電針16とよりなる。支持板15には、多数の排ガス流入孔31が設けられている。支持板15から対向電極14に向かう排ガス流路30は、プラズマ21の進展方向と平行となっている。
Claim (excerpt):
煙道の内部に放電電極および対向電極が設けられてなる反応器と、両電極に接続された高電圧パルス発生電源とを備え、両電極間に高電圧パルスを連続的に印加することにより非平衡プラズマを発生させ、被処理排ガスが反応器中を通過する間に排ガス中の有害ガス成分を捕集しやすい形態もしくは無害な形態に転換するプラズマ法排ガス浄化装置において、放電電極が、支持板と、支持板に設けられた複数の先端が尖った放電針とよりなり、支持板に被処理排ガスの流入孔が設けられ、支持板から対向電極に向かう排ガス流路が形成されていることを特徴とするプラズマ法排ガス浄化装置。
IPC (4):
B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/60 ,  B01D 53/74
FI (2):
B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 132 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)

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