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J-GLOBAL ID：200903054944639002

ハイパーブランチポリマーの合成方法およびレジスト組成物

Inventor：
椛島 真一郎

About 椛島 真一郎

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山田 成吾

About 山田 成吾

, 
堀部 峰子

About 堀部 峰子

, 
鈴木 薫

About 鈴木 薫


Applicant, Patent owner：
ライオン株式会社

About ライオン株式会社


Agent (1)： 酒井 昭徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007338941
Publication number (International publication number)：2009155619
Application date： Dec. 28, 2007
Publication date： Jul. 16, 2009
Summary：
【課題】反応系をゲル化させることなく、高度に分岐したハイパーブランチポリマーを合成できるハイパーブランチポリマーの合成方法およびレジスト組成物を提供すること。【解決手段】多官能ラジカル重合性単量体と一官能ラジカル重合性単量体とのラジカル重合を経てハイパーブランチポリマーを合成する際に、ラジカル重合を開始させる重合開始剤が存在する反応系に、多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体を同時に加えて、ラジカル重合をおこなうようにした。多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体は、ラジカル重合に用いる一官能ラジカル重合性単量体全量のうち、一部の一官能ラジカル重合性単量体を混合した反応系に加える。また、多官能ラジカル重合性単量体および一官能ラジカル重合性単量体の混合物を加えてもよい。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
第1のモノマーと第2のモノマーとのラジカル重合を経てハイパーブランチポリマーを合成するハイパーブランチポリマーの合成方法であって、 前記ラジカル重合を開始させる重合開始剤が存在する反応系に、前記第1および第2のモノマーを同時に加えて、前記ラジカル重合をおこなうことを特徴とするハイパーブランチポリマーの合成方法。
IPC (2)：
C08F 220/00 ,  G03F 7/039
FI (2)：
C08F220/00 ,  G03F7/039 601
F-Term (59)：
2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF02 ,  2H025BF11 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  4J100AB07P ,  4J100AB13Q ,  4J100AB16Q ,  4J100AE75Q ,  4J100AL03P ,  4J100AL04P ,  4J100AL08P ,  4J100AL10P ,  4J100AL62R ,  4J100AL63Q ,  4J100AL65Q ,  4J100AL92Q ,  4J100AM24Q ,  4J100AM55Q ,  4J100AN13Q ,  4J100AN14Q ,  4J100AP02Q ,  4J100AP07Q ,  4J100AP17Q ,  4J100AQ21Q ,  4J100AR17Q ,  4J100AR18Q ,  4J100AS01Q ,  4J100AS02Q ,  4J100AS03Q ,  4J100AS06Q ,  4J100AS07Q ,  4J100AS11Q ,  4J100AS13Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA08Q ,  4J100BA16P ,  4J100BA20P ,  4J100BA51Q ,  4J100BA55Q ,  4J100BA58Q ,  4J100BA65Q ,  4J100BA72P ,  4J100BB01P ,  4J100BB01Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC43P ,  4J100BC49P ,  4J100BC53P ,  4J100CA04 ,  4J100CA25 ,  4J100FA35 ,  4J100FA37 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (10)
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