処理方法と処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：萩原康司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995018680
Publication number (International publication number)：1996078321
Application date： Jan. 10, 1995
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】現像液の濃度に影響を与えずにレジスト膜の表面に親水性を付与できる手段を提供する。【構成】被処理体Wに塗布されたレジスト膜Aの表面に、現像処理を行う前において、中性の物質からなる親水性膜Bを形成する。そして、現像液の接触角が50 ゚以下となる条件下で現像液を供給して現像処理を行う。

Claim (excerpt)：

被処理体に塗布されたレジスト膜の表面に、現像処理を行う前において、中性の物質からなる親水性膜を形成してなる処理方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 , G03F 7/38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

フォトレジストの現像方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-282859 Applicant：松下電器産業株式会社
特開昭59-129424
特開平2-270147

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