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J-GLOBAL ID：200903055143268262

プラズマ処理装置

Inventor： 青木 誠
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994331558
Publication number (International publication number)：1996167595
Application date： Dec. 09, 1994
Publication date： Jun. 25, 1996
Summary：

【要約】【目的】載置台近傍における異常放電を抑制することができるプラズマ処理装置を提供することにある。【構成】気密に構成された処理容器2内に設けられた静電チャック機構を備えた載置台4と、この載置台4の静電チャック機構に被処理体Wを載置するとともに保持し、前記処理容器2内にプラズマを生起させ、被処理体Wを処理するプラズマ処理装置であって、前記載置台4は、前記静電チャック機構との当接面43の周縁部に絶縁部41を有することを特徴とするプラズマ処理装置。

Claim (excerpt)：

気密に構成された処理容器内に設けられた載置台と、この載置台に設けられ被処理体を保持する静電チャック機構とを具備し、前記処理容器内にプラズマを生起させ、前記被処理体を処理するプラズマ処理装置であって、前記載置台は、前記静電チャック機構との当接面の周縁部に絶縁部を設けたことを特徴とする処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-007520
  
• 静電チャック
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-015971   Applicant：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-367247