レジストの吸収光量分布評価方法及びシステム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：鈴江武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995334435
Publication number (International publication number)：1996250411
Application date： Dec. 22, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：

【要約】【課題】NA、σ、マスクパターン、ウェハ上の多層膜構造に応じた、レジスト中の吸収光量分布を高速に評価することが可能な方法及びシステムを提供することにある。【解決手段】投影露光装置の瞳の面上における回折光分布を算出し、前記瞳を通過し、前記投影露光装置のウェハ面に入射する、前記回折光分布の各回折光の入射角と干渉効果とに基づき、前記投影露光装置のレジストに対する各回折光の光吸収率を算出し、各回折光の光吸収率に基づき、各回折光の重みを算出し、この各回折光の重みを、前記回折光分布の各回折光に乗算し、レジスト中の吸収光量分布を得るべく、前記乗算手段により得られた重みが乗じられた各回折光を、前記瞳の面内で積分する。

Claim (excerpt)：

投影露光装置の瞳の面上における回折光分布を算出する回折光分布算出手段と、前記瞳を通過し、前記投影露光装置のウェハ面に入射する、前記回折光分布の各回折光の入射角と干渉効果とに基づき、前記投影露光装置のレジストに対する各回折光の光吸収率を算出する光吸収率算出手段と、この光吸収率算出手段により算出された各回折光の光吸収率に基づき、各回折光の重みを算出する重み算出手段と、この重み算出手段により算出された各回折光の重みを、前記回折光分布の各回折光に乗算する乗算手段と、レジスト中の吸収光量分布を得るべく、前記乗算手段により得られた重みが乗じられた各回折光を、前記瞳の面内で積分する積分手段とを具備するレジスト中の吸収光量の分布を評価するシステム。

FI (2)：

H01L 21/30 502 Z , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

投影結像パターンの補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-203259 Applicant：日本電信電話株式会社
シミュレーション方法及び投影光学設計方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-184811 Applicant：日本電信電話株式会社
特開平4-343214

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