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J-GLOBAL ID：200903055177548434

水浄化システム

Inventor： 藤井 康浩 ,  保坂 正人
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 滝本 智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997263206
Publication number (International publication number)：1999099384
Application date： Sep. 29, 1997
Publication date： Apr. 13, 1999
Summary：

【要約】【課題】 本発明は、上下水道をはじめ生活雑排水、屎尿処理水、工業廃水、汚染度の高い河川、沼湖、海洋において利用される水浄化システムに関するもので長期に渡り溶存有機物質、細菌を除去できる水浄化システムを提供することを目的としている。【解決手段】 吸着剤と光触媒を充填した吸着層に被処理水を流入し、有機溶存物質を吸着させた後、前記吸着層にオゾンガスを注入、続いて紫外線を照射することにより、細菌を死滅させ、前記吸着層に吸着した有機溶存物質を分解除去する水浄化システム。また、貴金属を担持したカーボンを充填した吸着層に被処理水を流入し、有機溶存物質を吸着させた後、前記貴金属担持カーボンを気密状態で加熱することにより、細菌を死滅させ、有機溶存物質を分解除去する排水浄化システム。以上のシステムにより高効率な水浄化が可能である。

Claim (excerpt)：

吸着剤と光触媒を充填した吸着層に被処理水を流入し、前記被処理水中の有機溶存物質を前記吸着剤に吸着させた後、前記吸着層内にオゾンガスを注入し、続いて前記光触媒に紫外線を照射することにより、前記被処理水に含まれる細菌及び前記有機溶存物質をそれぞれ殺菌、分解除去することを特徴とする水浄化システム。

IPC (5)：

C02F 1/28 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78

FI (5)：

C02F 1/28 F ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 水処理方法およびその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-164831   Applicant：日本下水道事業団, 株式会社クボタ, 株式会社日本フォトサイエンス