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J-GLOBAL ID：200903071051344740

水処理方法およびその装置

Inventor： 堺 好雄 ,  品部 和宏 ,  中野 浩二 ,  大庭 真治 ,  吉崎 耕大
Applicant, Patent owner： 日本下水道事業団 ,  株式会社クボタ ,  株式会社日本フォトサイエンス
Agent (1)： 森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997164831
Publication number (International publication number)：1999010136
Application date： Jun. 23, 1997
Publication date： Jan. 19, 1999
Summary：

【要約】【課題】 上水や下水・し尿の二次処理水などの被処理水を吸着処理するに際し、吸着剤を容易かつ経済的に再生できるようにし、それにより吸着処理をも容易かつ経済的に行えるようにする。【解決手段】 光触媒たる二酸化チタンを担持させた活性炭6を投入した反応槽3に被処理水1を通水する。活性炭6の吸着能が低下したときに、紫外線ランプ8より活性炭6に紫外線を照射して光触媒を活性化し、活性化された光触媒の酸化触媒作用の下に、活性炭6に吸着した有機物などの吸着質を酸化分解する。

Claim (excerpt)：

上水や下水・し尿の二次処理水などの被処理水を、表面に光触媒を担持した吸着剤を投入した反応槽に通水して、被処理水中の有機物などの吸着質を吸着剤により吸着除去し、吸着剤の吸着能が低下したときに、水中に維持した吸着剤を流動させながら、紫外線等の有効波長を有する光を照射して吸着剤表面の光触媒を活性化し、活性化された光触媒の触媒作用の下に、吸着剤に吸着した吸着質を酸化分解して吸着剤を再生することを特徴とする水処理方法。

IPC (6)：

C02F 1/28 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78

FI (7)：

C02F 1/28 D ,  C02F 1/28 E ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 J ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/72 101 ,  C02F 1/78

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 活性炭及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-187954   Applicant：三菱化学株式会社
• 水処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-181632   Applicant：岩崎電気株式会社
• 被処理流体処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-135083   Applicant：ダイキン工業株式会社