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J-GLOBAL ID：200903055255481279

メタンハイドレートの製造方法及び製造装置

Inventor： 谷井 忠明 ,  吉川 孝三 ,  峯元 雅樹 ,  渡部 正治 ,  惣万 芳人 ,  安藤 喜昌 ,  西田 清則
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 大場 充 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997295942
Publication number (International publication number)：1999130700
Application date： Oct. 28, 1997
Publication date： May. 18, 1999
Summary：

【要約】【課題】 メタンと水とを反応させて高濃度のメタンハイドレートを効率よく製造する方法とその製造装置を得る。【解決手段】 仕切板5を有する反応容器1内で水相Lを上昇流室6から上部室8、下降流室7、水相循環ポンプ9を経て循環し、メタン導入口10から上昇流室6にメタンを供給して水と反応させ、反応によって生成し前記水相の液面S近傍に浮上したメタンハイドレート層MHを液層抜出口16から回収する。

Claim (excerpt)：

メタンと水とを反応させてメタンハイドレートを製造するに際して、水相に上昇流と下降流とからなる循環流を形成し、この循環流にメタンを供給して水と反応させ、反応によって生成し前記水相の液面近傍に浮上したメタンハイドレート層を回収することを特徴とするメタンハイドレートの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭59-225127
  
• 循環流動接触反応方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-105101   Applicant：千代田化工建設株式会社
• 特開昭54-117379
  
• 特開平4-316795