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J-GLOBAL ID：200903055278961685

ワイヤーグリッド偏光子及びその製造方法

Inventor： アン,セー・ウォン ,  イ,キ・ドン ,  イ,スン・ウン ,  ユン,サン・スー ,  キム,ジン・スン ,  パク,ジョー・ド
Applicant, Patent owner： エルジー電子株式会社
Agent (2)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004269483
Publication number (International publication number)：2006084776
Application date： Sep. 16, 2004
Publication date： Mar. 30, 2006
Summary：

【課題】本発明は可視光線帯域で作動するワイヤーグリッド偏光子を製作する際に、エンボス技法を利用してワイヤーグリッド偏光子を簡単に、反復的に生産できるようにして低価で大量生産することができるようにする。 また、本発明は可視光線帯域の赤R、緑G、青Bにおける偏光性能が優れたワイヤーグリッド偏光子を提供する。【解決手段】本発明によるワイヤーグリッド偏光子製造方法は、型を製作する段階と、基板上に金属薄膜とポリマーを所定の順序で形成する段階と、型を利用してポリマーを成形する段階と、成形されたポリマーを利用して金属薄膜をエッチングして金属格子パターンを形成する段階と、ポリマーを除去する段階とを含むことを特徴とする。【選択図】図4A-4E

Claim (excerpt)：

基板と、 前記基板上に、型により形成されて金属格子の周期が120nm以下である金属格子パターンが含まれることを特徴とするワイヤーグリッド偏光子。

IPC (2)：

G02B 5/30 ,  G02B 27/28

FI (2)：

G02B5/30 ,  G02B27/28 Z

F-Term (6)：

2H049BA05 ,  2H049BA45 ,  2H049BC01 ,  2H049BC08 ,  2H099CA17 ,  2H099DA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• ナノメ-トルのスケ-ルのパタ-ンの複製
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-327186   Applicant：コーニングインコーポレイテッド
• 薄膜パターン製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-270458   Applicant：株式会社日立製作所