光磁気記録媒体用基板の製造方法とその方法を用いた光磁気記録媒体用基板

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡田敬
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995224394
Publication number (International publication number)：1997073675
Application date： Aug. 31, 1995
Publication date： Mar. 18, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】希土類-遷移金属アモルファスを記録層に用いた光磁気記録ディスク用の基板であるポリカーボネートの射出成形においては、スタンパからポリカーボネート基板へのグルーブの転写率が低いために、グルーブの底部分のコーナーとランドのコーナーでの曲率半径が大きくなっていた。また、従来条件では、グルーブの底部分のコーナーとランドのコーナーでの曲率半径が小さく、ポリカーボネート基板の複屈折が小さく、且つその周方向の変動が小さいポリカーボネート基板は得られなかった。これが結果的に再生時のRF信号のエンベロープの変動を大きくし、記録,再生におけるCN比を小さくしていた。これは、グルーブの形成幅を示すトラックピッチを1.4μmから0.8μmと狭くした時に、より顕著であった。【解決手段】従来よりポリカーボネート基板の射出成形時の金型温度と加熱筒温度を高くし、型締圧力を強くし、樹脂射出速度を速くし、さらに、冷却時間を長くした。

Claim (excerpt)：

グルーブ形成用のスタンパと、ポリカーボネートを溶融する加熱筒と、溶融した樹脂を射出する射出口と、型締をするための型締圧力を加える手段とから成る射出成形装置を用いて光磁気記録媒体用基板を成形する方法において、金型温度を118〜135°C、型締圧力を200〜300kg/cm2、樹脂射出速度を150〜200mm/s、加熱筒温度を310〜340°C、冷却時間を9〜16秒、としたことを特徴とする光磁気記録媒体用基板の製造方法。

IPC (7)：

G11B 11/10 541 , G11B 11/10 511 , B29C 45/50 , B29C 45/70 , B29C 45/73 , B29C 45/74 , B29C 45/77

FI (7)：

G11B 11/10 541 D , G11B 11/10 511 A , B29C 45/50 , B29C 45/70 , B29C 45/73 , B29C 45/74 , B29C 45/77

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

光磁気ディスク用基板の成形方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-337319 Applicant：信越化学工業株式会社

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