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J-GLOBAL ID：200903055746954268

露光量モニタマスク、露光量調整方法及び半導体装置の製造方法

Inventor： 藤澤 忠仁 ,  井上 壮一 ,  野村 博 ,  森 一朗
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 外川 英明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999158955
Publication number (International publication number)：2000310850
Application date： Jun. 07, 1999
Publication date： Nov. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 高精度に露光量の調整を行う。【解決手段】 露光量モニタマスクに配置された露光量検出用パターン100には、一対の相対位置検出用パターン104(104a,b)と、この相対位置検出用パターンに挟まれた露光量モニタパターン101とがx軸方向(一方向)に配列形成されている。また、x軸と直交するy軸方向に、露光量モニタパターン101を挟んで一対のy軸方向位置ずれ量検出用パターン105(105a,b)が形成されている。露光量モニタパターン101は、開口パターン102と、このパターンに対してx軸方向に接続し、透過する露光光の照射強度分布がx軸方向に単調に変化する強度変化パターン103とから形成されている。

Claim (excerpt)：

一方向に配列形成された少なくとも3個のパターンを具備し、少なくと1個のパターンは透過した露光光の照射強度分布が前記一方向に対して単調に変化する強度変化パターンを一つ以上含むことを特徴とする露光量モニタマスク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 1/08 Z ,  H01L 21/30 516 D

F-Term (14)：

2H095BA01 ,  2H095BA07 ,  2H095BB02 ,  2H095BC09 ,  2H095BE03 ,  2H095BE06 ,  5F046AA17 ,  5F046BA04 ,  5F046CA04 ,  5F046DA02 ,  5F046DA11 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02 ,  5F046EB06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• オーバレーマーク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-358677   Applicant：現代電子産業株式会社
• 露光条件検定パターンおよび露光原版ならびにそれらを用いた露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-083716   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭62-115830
  
• 投影露光用フォトマスクパターン、投影露光用フォトマスク、焦点位置検出方法、焦点位置制御方法および半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-261439   Applicant：松下電子工業株式会社
• 投影露光装置の露光面の位置の設定方法およびそれに用いるマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-185806   Applicant：ローム株式会社

Cited by examiner (3)

• オーバレーマーク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-358677   Applicant：現代電子産業株式会社
• 露光条件検定パターンおよび露光原版ならびにそれらを用いた露光方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-083716   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開昭62-115830