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J-GLOBAL ID：200903055944043491

ウエットエッチング方法

Inventor： 松本 仁史 ,  粟野 憲康 ,  水川 茂
Applicant, Patent owner： 住友精密工業株式会社
Agent (1)： 生形 元重 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998142334
Publication number (International publication number)：1999323576
Application date： May. 08, 1998
Publication date： Nov. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 微細パターンのウエットエッチングを可能にする。【解決手段】 ウエットエッチング処理直前の基板に大気中で紫外線を照射する。紫外線の照射により加熱された状態の基板にウエットエッチングを行う。紫外線は、エキシマランプにより発生させた、中心波長が172nmのエキシマ光とする。エキシマ光を用いると、大気中での短時間の照射により、基板表面に残る有機物質が酸化分解される。同時に、その基板がウエットエッチングに適した30〜40°Cに予熱される。

Claim (excerpt)：

ウエットエッチング処理直前の基板に、172nmの波長を主体とする紫外線を照射する工程と、紫外線の照射により加熱された状態の基板に対してウエットエッチング処理を行う工程とを包含することを特徴とするウエットエッチング方法。

IPC (4)：

C23F 1/00 101 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/306 ,  H05K 3/06

FI (4)：

C23F 1/00 101 ,  G02F 1/13 101 ,  H05K 3/06 A ,  H01L 21/306 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• エッチング方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-092088   Applicant：キヤノン株式会社
• 誘電体バリヤ放電ランプを使用した灰化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-032530   Applicant：ウシオ電機株式会社
• 固体材料表面改質方法および固体材料表面改質装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-332993   Applicant：学校法人東海大学, ウシオ電機株式会社
• 特開昭62-160727