透明導電性薄膜積層体の製造方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997089527
Publication number (International publication number)：1998278159
Application date： Apr. 08, 1997
Publication date： Oct. 20, 1998
Summary：

【要約】【解決手段】透明な基体(A)上に、少なくとも、透明高屈折率薄膜層(a)、金属薄膜層(b)を、基体(A)側からb/aなる積層単位を少なくとも1単位有する透明導電性薄膜積層体を、加熱処理し、面抵抗を低下させ、光線透過率を上昇させることを特徴とする、面抵抗が低く、光線透過率が高い透明導電性薄膜積層体の製造方法。【効果】本発明によれば、面抵抗が低く、光線透過率が高い透明導電性薄膜積層体の製造方法を提供できる。

Claim (excerpt)：

透明な基体(A)上に、少なくとも、透明高屈折率薄膜層(a)、金属薄膜層(b)を、基体(A)側からb/aなる積層単位を少なくとも1単位有する透明導電性薄膜積層体を、加熱処理し、面抵抗を低下させ、光線透過率を上昇させることを特徴とする、面抵抗が低く、光線透過率が高い透明導電性薄膜積層体の製造方法。

IPC (8)：

B32B 7/02 104 , B32B 7/02 103 , B32B 9/00 , B32B 15/08 , C08J 7/00 301 , G02B 1/10 , H01B 5/14 , H01B 13/00 503

FI (8)：

B32B 7/02 104 , B32B 7/02 103 , B32B 9/00 A , B32B 15/08 P , C08J 7/00 301 , H01B 5/14 A , H01B 13/00 503 B , G02B 1/10 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

透明導電性積層体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-216091 Applicant：三井東圧化学株式会社
特開平1-100260
特開平2-221365

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