Pat
J-GLOBAL ID:200903056149293389
パターン形成体およびパターン形成方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山下 昭彦 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001395028
Publication number (International publication number):2002274077
Application date: Jun. 12, 1998
Publication date: Sep. 25, 2002
Summary:
【要約】【課題】 光触媒を使用したパターン形成体を提供する。【解決手段】 基体上に光触媒含有層を有し、光触媒含有層は、パターンの露光によって光触媒の作用によって濡れ性が変化する物質を含有する層、光触媒含有層上に、パターンの露光によって光触媒の作用によって濡れ性が変化する物質の含有層、基材上に光触媒含有層を有し光触媒含有層上にパターンの露光によって光触媒の作用により分解除去される層を有するか、もしくは基材上に、光触媒、パターンの露光によって光触媒の作用により分解される物質、および結着剤からなる組成物層を有し、露光によって濡れ性を変化させることによってパターンを記録するパターン形成体。
Claim (excerpt):
光学的にパターンを形成するパターン形成体において、基材上に光触媒含有層を有し、光触媒含有層は、パターンの露光によって光触媒の作用により濡れ性が変化する物質を含有することを特徴とするパターン形成体。
IPC (4):
B41N 1/14
, B41C 1/10
, G03F 7/00 503
, G03F 7/004 521
FI (4):
B41N 1/14
, B41C 1/10
, G03F 7/00 503
, G03F 7/004 521
F-Term (36):
2H025AB03
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BB00
, 2H025BH03
, 2H025CB32
, 2H025CB41
, 2H084AA30
, 2H084AA40
, 2H084AE03
, 2H084BB02
, 2H084CC05
, 2H096AA06
, 2H096BA13
, 2H096HA07
, 2H096LA30
, 2H114AA05
, 2H114AA11
, 2H114AA14
, 2H114AA22
, 2H114BA01
, 2H114DA08
, 2H114DA15
, 2H114DA23
, 2H114DA38
, 2H114DA39
, 2H114DA52
, 2H114DA57
, 2H114DA72
, 2H114DA73
, 2H114EA03
, 2H114EA06
, 2H114FA16
, 2H114GA34
, 2H114GA38
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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