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J-GLOBAL ID:200903056277115361
放射線照射装置および放射線照射方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
曾我 道照
, 曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003118801
Publication number (International publication number):2004321408
Application date: Apr. 23, 2003
Publication date: Nov. 18, 2004
Summary:
【課題】照射野拡大装置の性能を強化することなく、大照射野を有し、線量分布の一様性を確保した放射線照射装置を提供する。【解決手段】放射線照射装置は、複数回の放射線ビームの照射を行わせるビーム遮断手段と、複数回の放射線ビームの照射により形成される重畳領域を含む複数の照射領域で被照射箇所全面が照射されるようにする位置制御手段と、各照射領域の重畳領域での線量分布に勾配を持たせ、複数回の放射線ビームの照射により重畳領域を含めて被照射箇所全面に渡り線量分布が平坦になるようにする多葉コリメータ制御手段とを有する。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
加速器から輸送された放射線ビームを照射台上に配置された被照射箇所に照射する放射線照射装置において、
上記放射線ビームの遮断を行うビーム遮断手段と、
複数回の上記放射線ビームの照射により形成される重畳領域を含む複数の照射領域で上記被照射箇所全面が照射されるように上記照射台の位置を制御する位置制御手段と、
上記各照射領域の上記重畳領域での線量分布に勾配を持たせ、上記複数回の放射線ビームの照射により上記重畳領域を含めて上記被照射箇所全面に渡り線量分布が平坦になるようにする多葉コリメータ制御手段とを有することを特徴とする放射線照射装置。
IPC (5):
A61N5/10
, G21K1/04
, G21K3/00
, G21K5/04
, G21K5/10
FI (8):
A61N5/10 N
, A61N5/10 K
, A61N5/10 T
, G21K1/04 S
, G21K1/04 Z
, G21K3/00 Z
, G21K5/04 A
, G21K5/10 Z
F-Term (5):
4C082AC05
, 4C082AG22
, 4C082AG27
, 4C082AG43
, 4C082AP03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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放射線治療方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-257367
Applicant:石川島播磨重工業株式会社
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放射線のエネルギ分布調整機構、並びに、これを用いた放射線の照射方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-089250
Applicant:住友重機械工業株式会社
-
マルチリーフコリメータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-021964
Applicant:株式会社日立製作所
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