水中の有機物除去装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：畑中芳実 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997047617
Publication number (International publication number)：1998244280
Application date： Mar. 03, 1997
Publication date： Sep. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】半導体製造工場で排出される高濃度有機系廃液(例えばフォトリソグラフィー工程で排出される現像廃液)のような高濃度の有機物を含む水から有機物を効率的にかつ安定して除去することができ、しかも処理コストを低減できる有機物除去装置を提供する。【解決手段】被処理水にアルカリ性条件下でオゾンを添加することにより被処理水中に含まれる有機物を酸化分解する有機物酸化装置2と、OH形の強塩基性陰イオン交換樹脂を用いた陰イオン交換装置6と、逆浸透膜装置8とを、被処理水をこの順序で通水するように設置する。さらに、逆浸透膜装置8の濃縮水を濃縮水返送管12を通して有機物酸化装置2の被処理水中に導入する。また、上記構成に代え、逆浸透膜装置8の濃縮水を上記と同じ陰イオン交換装置6に通水してから有機物酸化装置2の被処理水中に導入してもよい。

Claim (excerpt)：

被処理水にアルカリ性条件下でオゾンを添加することにより該被処理水中に含まれる有機物を酸化分解する有機物酸化装置と、OH形の強塩基性陰イオン交換樹脂を用いた陰イオン交換装置と、逆浸透膜装置とを、被処理水をこの順序で通水するように設置するとともに、逆浸透膜装置の濃縮水を有機物酸化装置の被処理水中に導入することを特徴とする水中の有機物除去装置。

IPC (9)：

C02F 1/78 ZAB , B01D 61/02 500 , B01D 61/04 , B01F 3/04 , B01J 41/04 , C02F 1/42 , C02F 1/44 , C02F 9/00 502 , C02F 9/00

FI (10)：

C02F 1/78 ZAB , B01D 61/02 500 , B01D 61/04 , B01F 3/04 Z , B01J 41/04 G , C02F 1/42 D , C02F 1/44 F , C02F 9/00 502 F , C02F 9/00 502 K , C02F 9/00 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭61-212385
特開昭56-017687
特開昭50-094757

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