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J-GLOBAL ID:200903056651267685

半導体モジュールおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 森田 雄一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003170395
Publication number (International publication number):2005005638
Application date: Jun. 16, 2003
Publication date: Jan. 06, 2005
Summary:
【課題】コスト上昇を抑えつつ放熱特性を向上させた半導体モジュールおよびその製造方法を提供する。【解決手段】パワー半導体2または駆動IC3等の回路素子をボンディングワイヤ4,5によりリードフレーム1の回路パターンに接続して成形樹脂6で覆い、この成形樹脂6の反対面に、セラミックス絶縁層7を形成した半導体モジュール100とした。また、セラミックス絶縁層7をプラズマ溶射法・コールドスプレーにより形成する半導体モジュール100の製造方法とした。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
1または複数の回路素子を搭載し、樹脂封止してなる半導体モジュールにおいて、 前記回路素子を搭載するリードフレームと、 前記回路素子および前記リードフレームの回路素子搭載面を少なくとも封止する樹脂と、 少なくとも前記リードフレームの回路素子非搭載面に直接形成したセラミックス絶縁層と、 を備えることを特徴とする半導体モジュール。
IPC (4):
H01L23/36 ,  H01L23/373 ,  H01L25/07 ,  H01L25/18
FI (3):
H01L23/36 C ,  H01L23/36 M ,  H01L25/04 C
F-Term (5):
5F036AA01 ,  5F036BB08 ,  5F036BD13 ,  5F036BD14 ,  5F036BE01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 半導体装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2000-042695   Applicant:三菱電機株式会社
  • 特開平4-332155

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