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J-GLOBAL ID：200903056778635136

マーキング方法

Inventor： 早川 博敏 ,  池田 満昭 ,  高波 修一 ,  後藤 忠彦
Applicant, Patent owner： 株式会社安川電機 ,  株式会社ワイ・イー・データ
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997037695
Publication number (International publication number)：1998230377
Application date： Feb. 21, 1997
Publication date： Sep. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ガラス等の表面に微細で鮮明、消え難いマーキングをすること。【解決手段】 透明体又はレーザ光線透過体にマーキングを形成する方法において、マーキングを形成されるべき前記透明体又はレーザ光線透過体の面を所望の金属、合金、金属化合物、セラミックス若しくは有機化合物又は前記金属、合金、金属化合物、セラミックス若しくは有機化合物を少なくとも1以上含む複合物から成る板状体の面に接触させ、前記透明体又はレーザ光線透過体を通して前記板状体の面に文字、図形、記号等の所望のパターンでレーザ光を照射し、前記レーザ光に照射された前記板状体の近傍の前記透明体又はレーザ光線透過体の面に凹部を形成してマーキングすることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

透明体又はレーザ光線透過体にマーキングを形成する方法において、マーキングを形成されるべき前記透明体又はレーザ光線透過体の面を所望の金属、合金、金属化合物、セラミックス若しくは有機化合物又は前記金属、合金、金属化合物、セラミックス若しくは有機化合物を少なくとも1以上含む複合物から成る板状体の面に接触させ、前記透明体又はレーザ光線透過体を通して前記板状体の面に文字、図形、記号等の所望のパターンでレーザ光を照射し、前記レーザ光に照射された前記板状体の近傍の前記透明体又はレーザ光線透過体の面に凹部を形成してマーキングすることを特徴とするマーキング方法。

IPC (2)：

B23K 26/00 ,  B41M 5/26

FI (2)：

B23K 26/00 B ,  B41M 5/26 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 透過性基体へのレーザーマーキング方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-229535   Applicant：並木精密宝石株式会社
• パターンを有する表面け書きを透明本体上に形成する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-514423   Applicant：フィリップスエレクトロニクスネムローゼフェンノートシャップ

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 化学大事典7, 19791110, 縮刷版第23刷, P.889-891