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J-GLOBAL ID:200903056778847753
焦点測定のためのアタッチメントモジュール
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山川 政樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996057021
Publication number (International publication number):1996248322
Application date: Feb. 21, 1996
Publication date: Sep. 27, 1996
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、顕微鏡対物レンズ(4)により集束された光線、特にレーザー光線を空間的に分解して測定するための新規なアタッチメントモジュール(7)を提供する。【解決手段】 ガラス支持板(8)と、その支持体に固定されたスリーブ(9及び10)とから構成され、スリーブには圧電細管形スキャナ(12)が支持板(8)に対しほぼ垂直に保持される。細管形スキャナ(12)は光学近視野プローブ(13a)を3つの互いに垂直な方向に運動させる働きをする。光学近視野プローブは、一端にレーザー焦点を走査する尖端(13a)を有するガラス繊維(13)であるのが好ましい。ガラス繊維(13)の他端部には、ガラス繊維(13)の中に入射した光を検出するフォトダイオード(14)が設けられているか、あるいは、接続箇所を経て適切な光検出器を適応させることができる。
Claim (excerpt):
顕微鏡(1)の被検体載置台(6)に付け足す又はその上に装着するように構成されている支持体(8,9,10)と,支持体(8,9,10)に配置され、支持体(8,9,10)に対して2つの互いに垂直な空間方向に精密位置決めを行う位置決め装置(12)と,位置決め装置(12)に配置された、尖端(13a)を有するガラス繊維(13)からなる近視野プローブとを含む顕微鏡対物レンズ(4)の焦点を空間的に分解して測定するためのアタッチメントモジュール(7)。
IPC (3):
G02B 21/02
, G01B 11/00
, G02B 21/00
FI (3):
G02B 21/02 Z
, G01B 11/00 A
, G02B 21/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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特開平4-315938
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微細表面観察装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-256817
Applicant:セイコー電子工業株式会社, 藤平正道
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特開平3-054421
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特開昭60-225034
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特開昭63-001934
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特表昭61-502985
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特開平4-315938
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特開平3-054421
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特開昭60-225034
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特開昭63-001934
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特表昭61-502985
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