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J-GLOBAL ID：200903061490179504

微細表面観察装置

Inventor： 藤平 正道 ,  安宅 龍明 ,  作原 寿彦
Applicant, Patent owner： セイコー電子工業株式会社 ,  藤平 正道
Agent (1)： 林 敬之助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991256817
Publication number (International publication number)：1993099641
Application date： Oct. 03, 1991
Publication date： Apr. 23, 1993
Summary：

【要約】【目的】 微細表面観察装置に関して、試料の表面形状に依存するエバネッセント光を検出し、試料の微細な透過率及び屈折率の分布を読みとる。【構成】 従来のフォトン走査顕微鏡においては、試料の表面形状を観察することのみにとどめられていたが、試料と光ファイバー先端部との距離を一定にする手段もしくはその位置合わせの信号を検出する手段を設けることにより試料面内の微細な透過率あるいは屈折率の分布を読みとることが可能になった。さらに試料の発光状態も検出可能になった。

Claim (excerpt)：

(a)試料が一つの面に被覆されたプリズムと、(b)前記プリズム上面の試料あるいはプリズム上面に、ある特定波長の光を全反射する角度で入射させるための光源及び光学系と、(c)試料表面より発生する前記入射波長と同じ波長のエバネッセント光を検出するための、微小な開口部を有す光ファイバー及び光ファイバーを通過したフォトン光を検出するための光検出系と、(d)前記プリズム上面の試料と前記光ファイバー先端部とが垂直に接近するためのZ軸移動機構と、(e)試料表面を光ファイバー先端部が二次元走査することができるためのXY軸移動機構及びXY軸制御機構と、(f)前記試料と光ファイバー先端部との距離を所定に保つ信号を検出し、検出した信号が一定になるようにZ軸移動機構を制御するZ軸制御機構とにより構成され、試料表面と光ファイバー先端部との距離を所定に保った状態で、試料表面をXY走査しエバネッセント光の強度をよみとることを特徴とする微細表面観察装置。

IPC (2)：

G01B 11/30 ,  G02B 6/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 磁区観察用近接場走査型顕微鏡
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-053813   Applicant：株式会社ニコン