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J-GLOBAL ID：200903056792929258

薬品製造方法及び薬品製造装置

Inventor： 福泉 正孝 ,  的場 亨 ,  押田 祐
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社 ,  富士通ヴィエルエスアイ株式会社
Agent (1)： 恩田 博宣 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999366734
Publication number (International publication number)：2001179063
Application date： Dec. 24, 1999
Publication date： Jul. 03, 2001
Summary：

【要約】【課題】一般工業用ガスを用いてコストの低減を図ることのできる薬品製造装置を提供すること。【解決手段】一般工業にて使用されるガスを薬品製造タンク21に貯えた純水又は混合液に溶解させて薬品を製造するとともに、排気の量を制御する排気制御部23、及び、ガス溶解部から一定量の薬品を排水する排水制御部24の少なくとも一方を同時に実施する。排気及び排水には、ガスの不純物が含まれる。従って、一般工業用のガスの溶解と薬品の精製が同時に行われる。

Claim (excerpt)：

ガスを純水又は混合液に溶解する工程と、前記ガスが溶解する際の排気の量を調整する工程、及び、前記ガスの溶解後の薬品を一定量排出する工程の少なくとも一方を備え、前記調整工程及び前記排出工程の少なくとも一方を前記溶解工程と同時に実施することを特徴とする薬品製造方法。

IPC (6)：

B01F 1/00 ,  B01F 3/04 ,  B01F 15/04 ,  B01J 4/00 102 ,  B01J 10/00 104 ,  C01C 1/16

FI (6)：

B01F 1/00 A ,  B01F 3/04 A ,  B01F 15/04 D ,  B01J 4/00 102 ,  B01J 10/00 104 ,  C01C 1/16 C

F-Term (27)：

4G035AA01 ,  4G035AB05 ,  4G035AE02 ,  4G035AE13 ,  4G035AE15 ,  4G037BA03 ,  4G037BB23 ,  4G037BC03 ,  4G037BD07 ,  4G037BD08 ,  4G037BD09 ,  4G037BD10 ,  4G068AA01 ,  4G068AB01 ,  4G068AC16 ,  4G068AD18 ,  4G068AE01 ,  4G068AE06 ,  4G068AF12 ,  4G068AF31 ,  4G075AA13 ,  4G075BB03 ,  4G075BB04 ,  4G075BD27 ,  4G075CA03 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• オゾン水製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-124267   Applicant：株式会社安川電機
• 高濃度オゾン水製造方法及び高濃度オゾン水製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-082520   Applicant：長廣仁蔵