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J-GLOBAL ID：200903056828155882

光コネクターフェルールの研磨方法

Inventor： 両毛 克己 ,  藤山 正昭 ,  石黒 忠
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996009927
Publication number (International publication number)：1997192999
Application date： Jan. 24, 1996
Publication date： Jul. 29, 1997
Summary：

【要約】【課題】 セラミックによるフェルールに光ファイバーを挿入固定してなる光コネクターフェルールの先端を研磨シートにシリカゲル水溶液を供給した湿式研磨で凸状球面に研磨するについて、表面平滑性および段差のない研磨を行って低反射による伝達効率の向上を図る。【解決手段】 光コネクターフェルール1の先端を研磨シート5とシリカゲル水溶液16を用いて凸状球面に研磨するについて、遊星運動もしくは往復運動させた光コネクターフェルール1の先端を研磨シート5上を摺動させる際に、研磨シート面に1次粒子の平均粒子径が1〜12nmのシリカゲルを濃度が7〜20重量%で含むシリカゲル水溶液16を供給して研磨する。

Claim (excerpt)：

フェルール穴に光ファイバーを挿入固定してなる光コネクターフェルールの先端を研磨シートとシリカゲル水溶液を用いて凸状球面に研磨する光コネクターの研磨方法において、遊星運動もしくは往復運動させた光コネクターフェルールの先端を研磨シート上を摺動させる際に、研磨シート面に1次粒子の平均粒子径が1〜12nmのシリカゲルを濃度が7〜20重量%で含むシリカゲル水溶液を供給して研磨することを特徴とする光コネクターフェルールの研磨方法。

IPC (2)：

B24B 19/00 ,  B24D 11/00

FI (2)：

B24B 19/00 J ,  B24D 11/00 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-100008
  
• 光ファイバコネクタの端面研磨剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-242111   Applicant：日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社, エヌ・ティ・ティ・インターナショナル株式会社
• 光コネクタフェルール端面研磨機
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-176445   Applicant：日本電信電話株式会社