レジスト用ポリマー及び感放射線性レジスト組成物

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小野信夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002309288
Publication number (International publication number)：2004143281
Application date： Oct. 24, 2002
Publication date： May. 20, 2004
Summary：

【課題】レジスト用ポリマー中に含まれる極微小の難溶解性物質の生成そのものを抑制することにより、経時保存時の異物の成長及び析出を防止し、保存安定性に優れ、かつ、極微細なパターン形成に好適なレジスト用ポリマーおよびレジスト組成物を提供すること。【解決手段】エチレン性二重結合を有する複数の重合性化合物を原料モノマーとして共重合させることにより得られるレジスト用ポリマーであって、上記重合性化合物には、少なくとも、酸で分解してアルカリ可溶性になる構造を有するモノマーと、極性基を有するモノマーとが含まれ、全ての原料モノマー中に含まれる2量体以上の重合体不純物が0.1質量%以下であるか、5量体以上の重合体不純物が0.01質量%以下であることを特徴とするレジスト用ポリマーおよびこのレジスト用ポリマーと、放射線照射により酸を発生する感放射線酸発生剤を含んでなる感放射線性レジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

エチレン性二重結合を有する複数の重合性化合物を原料モノマーとして共重合させることにより得られるレジスト用ポリマーであって、上記重合性化合物には、少なくとも、酸で分解してアルカリ可溶性になる構造を有するモノマーと、極性基を有するモノマーとが含まれ、全ての原料モノマー中に含まれる2量体以上の重合体不純物が0.1質量%以下であることを特徴とするレジスト用ポリマー。

IPC (3)：

C08F220/28 , G03F7/039 , H01L21/027

FI (3)：

C08F220/28 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

F-Term (23)：

2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 4J100AL03P , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC22P , 4J100BC53P , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100FA03 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

感放射線性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-073000 Applicant：JSR株式会社
環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルの製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-323373 Applicant：ダイセル化学工業株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-092325 Applicant：市村國宏, 有限会社日本ケミックス, 住友化学工業株式会社

Return to Previous Page