Pat
J-GLOBAL ID：200903057397523109

洗浄方法

Inventor：
奥村 正剛

About 奥村 正剛


Applicant, Patent owner：
栗田工業株式会社

About 栗田工業株式会社


Agent (1)： 長門 侃二 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000242602
Publication number (International publication number)：2002052322
Application date： Aug. 10, 2000
Publication date： Feb. 19, 2002
Summary：
【要約】【課題】 とくに微粒子の除去能力に優れ、洗浄液の残留が少なく垂直立ち上げが可能な超純水製造システムの洗浄方法を提供する。【解決手段】 超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの少なくとも一部を洗浄する際に、前記超純水との接触面に付着した微粒子の表面電位を変化させることにより、前記微粒子を除去する。
Claim (excerpt)：
超純水製造装置、超純水のユースポイント、並びに前記超純水製造装置と前記ユースポイントとを接続する超純水の流路からなる超純水製造システムの少なくとも一部を洗浄する方法であって、前記超純水との接触面に付着した微粒子の表面電位を変化させることにより、前記微粒子を除去することを特徴とする超純水製造システムの洗浄方法。
IPC (10)：
B01D 65/02 ,  B01D 65/02 510 ,  B01D 65/06 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  B08B 3/12 ,  B08B 9/027 ,  B08B 9/08 ,  C02F 1/34 ,  C02F 1/44
FI (10)：
B01D 65/02 ,  B01D 65/02 510 ,  B01D 65/06 ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  B08B 3/12 Z ,  B08B 9/08 ,  C02F 1/34 ,  C02F 1/44 J ,  B08B 9/06
F-Term (30)：
3B116AA13 ,  3B116AA33 ,  3B116AB51 ,  3B116BB62 ,  3B116BB82 ,  3B116BB83 ,  3B116CC05 ,  3B201AA13 ,  3B201AA33 ,  3B201AB51 ,  3B201BB62 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BC05 ,  3B201CA03 ,  3B201CC21 ,  4D006GA06 ,  4D006JA55C ,  4D006KC16 ,  4D006KC19 ,  4D006KC22 ,  4D006KD04 ,  4D006KD17 ,  4D006PC02 ,  4D006PC42 ,  4D037AA03 ,  4D037BA18 ,  4D037BA26 ,  4D037CA03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM