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J-GLOBAL ID：200903057472602095

超純水製造装置

Inventor： 小島 泉里
Applicant, Patent owner： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993222502
Publication number (International publication number)：1995075780
Application date： Sep. 07, 1993
Publication date： Mar. 20, 1995
Summary：

【要約】【目的】 紫外線により有機物を分解する超純水製造装置において、紫外線の照射効率を高めるとともに、イニシャルコスト及びランニングコストを低減させることを目的とする。【構成】 前処理システム、一次純水システムと二次純水システムからなる超純水製造装置において、前記一次純水システムと二1純水システムに、それぞれ、180〜190nmの波長を含む紫外線を照射する低圧紫外線ランプを備えた紫外線照射装置と混床式イオン交換装置の組合せを流路に沿って少くとも設けたことを特徴とする超純水製造装置。

Claim (excerpt)：

前処理システム、一次純水システムと二次純水システムからなる超純水製造装置において、前記一次純水システムと二次純水システムに、それぞれ、180〜190nmの波長を含む紫外線を照射する低圧紫外線ランプを備えた紫外線照射装置と混床式イオン交換装置の組合わせを流路に沿って少くとも1組設けたことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (9)：

C02F 1/32 ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/18 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 超純水の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-301993   Applicant：日本錬水株式会社
• 特開平4-108588