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J-GLOBAL ID：200903057475219713

干渉装置

Inventor： 原田 研 ,  明石 哲也 ,  戸川 欣彦 ,  松田 強 ,  守谷 騰
Applicant, Patent owner： 独立行政法人理化学研究所
Agent (2)： 小川 勝男 ,  田中 恭助
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004004156
Publication number (International publication number)：2005197165
Application date： Jan. 09, 2004
Publication date： Jul. 21, 2005
Summary：

【課題】電子線バイプリズムを用いた干渉計で重要なパラメータである干渉縞間隔sと干渉領域幅Wが、互いに独立に制御できなかった。【解決手段】2つの電子線バイプリズムを光軸方向に2段に用いることにより、フレネル回折を回避できるだけでなく、干渉縞間隔sと干渉領域幅Wを、それぞれの電子線バイプリズム電極電圧を制御して、独立にコントロールする。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

電子線の光源と、前記光源から放出される電子線を試料に照射するための照射光学系と、前記電子線が照射する試料を保持するための試料保持装置と、前記試料の像を結像するためのレンズ系と前記試料像を観察あるいは記録するための装置を有し、電子線の光軸上で前記試料の配置される位置より電子線の進行方向の下流側に形成される前記試料の像面位置で光軸と直交する平面内に配置された上段のバイプリズムと前記レンズ系の1つもしくは複数のレンズを介して前記上段バイプリズムの前記光軸上の電子線の下流側で前記上段バイプリズムと互いに平行な平面内に配置される下段のバイプリズムとを備え、該両バイプリズムがそれぞれ独立にその位置の移動、電極の回転を行うことができるとともに、それら前記上段バイプリズムと前記下段バイプリズムにそれぞれ独立に電圧を印加できることにより、光軸を含む電子光学上の同一平面内で電子線を偏向させることを特徴とする干渉装置。

IPC (1)：

H01J37/295

FI (1)：

H01J37/295

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 国際公開第01/075394号パンフレット
  

Cited by examiner (5)

• 特開昭59-002709
  
• 家具における踏み台
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-260130   Applicant：サンウエーブ工業株式会社
• 家具における踏み台
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-291289   Applicant：サンウエーブ工業株式会社
• 電子干渉計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-006117   Applicant：株式会社日立製作所
• 特開平1-264151