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J-GLOBAL ID：200903057649637803

干渉計を用いた形状測定方法

Inventor： 宇田 豊 ,  清野 慧
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997142571
Publication number (International publication number)：1998332350
Application date： May. 30, 1997
Publication date： Dec. 18, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】形状累積誤差を低減し、 高精度の測定を可能とする形状測定方法を提供する。【解決手段】 被測定面と参照面とをあるピッチ間隔でオーバーラップ相対運動させて被測定面一部の干渉による形状測定を繰り返す第1工程と、前記相対運動によって生じる参照面の前記被測定面に対する傾き誤差を算出する第2の工程と、前記第2工程により算出した前記傾き誤差と前記移動前後の干渉縞とにより参照面の形状誤差を算出する第3の工程と、前記第3工程により算出した前記参照面の形状誤差と前記被測定面の各位置での干渉縞とにより、前記被測定面上の位置での形状誤差を算出する第4工程と、前記第4工程により算出した被測定面上の位置での形状誤差を第2工程にて算出した傾き誤差を用いてつなぎ合わせることにより、被測定面の形状測定を行う。

Claim (excerpt)：

開口合成法を用いた形状測定法であって、被測定面と参照面とをあるピッチ間隔でオーバーラップ相対運動させて被測定面一部の干渉による形状測定を繰り返す第1工程と、前記相対運動によって生じる参照面の前記被測定面に対する傾き誤差を算出す被測定面一部の干渉による形状測定を繰り返する第2の工程と、前記第2工程により算出した前記傾き誤差と前記移動前後の干渉縞とにより参照面の形状誤差を算出する第3の工程と、前記第3工程により算出した前記参照面の形状誤差と前記被測定面の各位置での干渉縞とにより、前記被測定面上の位置での形状誤差を算出する第4工程と、前記第4工程により算出した被測定面上の位置での形状誤差を第2工程にて算出した傾き誤差を用いてつなぎ合わせることにより、被測定面の形状測定を行うことを特徴とする干渉計を用いた形状測定方法。

IPC (2)：

G01B 11/24 ,  G01M 11/00

FI (3)：

G01B 11/24 D ,  G01M 11/00 L ,  G01M 11/00 M